一項將光學(xué)信號聚焦至前所未有精度的新技術(shù)可能會(huì )帶來(lái)更高效的電子系統和更高分辨率的成像設備。

　　美國加州理工學(xué)院(California Institute of Technology (Caltech))的工程師們找到了一種方法可以產(chǎn)生比光自身波長(cháng)小卻能傳輸同等信號的光束。

　　這項技術(shù)有助于實(shí)現通過(guò)更窄的光束來(lái)傳輸數據，以增加光學(xué)通信的帶寬，同時(shí)這也為體積更小、耗能更少的光學(xué)設備的出現做好了鋪墊。

　　研究人員發(fā)明了一種2nm長(cháng)的波導裝置，通過(guò)既聚焦光線(xiàn)——僅允許大約一半的光子通過(guò)——也聚焦光線(xiàn)在其內部產(chǎn)生的振動(dòng)，該裝置可以使光線(xiàn)尺寸接近自然的極限。

　　這種第二類(lèi)信號來(lái)源于該裝置的二氧化硅結構和其金鍍膜之間電子的振蕩，也被稱(chēng)為“表面等離子體激元(SPPs)”。

　　由于表面等離子體激元(SPPs)是直接與光相耦合，它們(與傳統信號相比)攜帶同等的信息和屬性，也發(fā)揮代理信號的作用，即使許多光子在穿越波導裝置時(shí)被吸收和散射。

　　之前的納米聚焦設備(與此相比)顯得效率極低，其通常只將幾個(gè)百分比的光子聚焦至一條窄的光線(xiàn)內。新的波導裝置能夠在三個(gè)維度上聚焦光線(xiàn)，產(chǎn)生直徑只有幾個(gè)納米的光點(diǎn)并且只需利用一半的光線(xiàn)。將光線(xiàn)聚焦為一個(gè)稍大的點(diǎn)，尺寸約為14nm×80nm，使得效率提高到了70%。

　　“該裝置是通過(guò)標準納米技術(shù)在半導體芯片上實(shí)現的，因此很容易與現有的技術(shù)相兼容?！痹擁椖康膮f(xié)作領(lǐng)導人Hyuck Choo說(shuō)道。